VSM-1000-MICRO顯微鏡激光測(cè)振儀
基于自混干涉技術(shù)的激光測(cè)振儀的構(gòu)造要比傳統(tǒng)的多普勒效應(yīng)的激光測(cè)振儀簡(jiǎn)單得多。從半導(dǎo)體二極管出來(lái)的激光打到反射或散射表面后，一小部分背反射或背散射的光再次進(jìn)到激光腔體，然后產(chǎn)生干涉信號(hào)，從中可以得到被測(cè)表面法向方向的位移 。
VSM-1000-MICRO有兩種激光。測(cè)量振動(dòng)的激光是紅外（波長(zhǎng)1310nm），不可見(jiàn)的。紅外和不可見(jiàn)激光是完全的眼睛安全的。另外一個(gè)紅色的指示激光是為不可見(jiàn)的紅外激光對(duì)中之用。為了不占滿攝像機(jī)，紅色指示激光的功率減到1mW，光斑大小為10um.激光測(cè)振儀被附在顯微鏡的特殊調(diào)節(jié)架上，邊通濾波鏡主要用以紅外激光和可見(jiàn)激光的反射，然后分別聚焦到測(cè)試目標(biāo)上。濾波鏡能夠
傳遞20%從測(cè)試表面上散射回來(lái)的光，并且在CMOS攝像機(jī)的傳感器上聚焦。為了能對(duì)中方便，顯微鏡裝在一個(gè)俯仰、傾斜和旋轉(zhuǎn)位移臺(tái)上。顯微鏡激光測(cè)振儀測(cè)量測(cè)試表面的法向分量的振動(dòng)。
應(yīng)用：本產(chǎn)品適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測(cè)試、半導(dǎo)體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導(dǎo)線框架等產(chǎn)品的檢查觀察。
也適用于幾何形狀的顯微觀測(cè)，并且有三維的計(jì)量功能。因此是精密零件，集成電路，半導(dǎo)體芯片，光伏電池，光學(xué)材料等行業(yè)的必備儀器。
光學(xué)指標(biāo) ：
激光類(lèi)型 ：
Pout < 1 mW @ 650 nm(collimated)
Pout < 15 mW @ 1310 nm (focused)
激光等級(jí)：
· Class 2 @ 650 nm (可見(jiàn))
· Class 1M @ 1310 nm (不可見(jiàn))
激光頭尺寸：50 mm x 70 mm x 105 mm
控制單元尺寸：12.5 cm x 15.5 cm x 29.6 cm
彩色攝像機(jī)指標(biāo)：
130萬(wàn)像素(1280 x 1024) 黑白，彩色和近紅外CMOS傳感器
像素 ：1280 x 1024 Pixels
工作距離： 21.7 mm
激光深度： 0.048 mm
光斑直徑：4.0 μm
范圍：300um x 250 um (X50目鏡)
激光測(cè)振儀指標(biāo)：
量程：1mm (p-p) 頻率范圍：0-50
KHz （20KHZ-3 MHz）
分辨率：0.2 nm s–1/√Hz 精度：+-1% (0-50KHZ),+-5%(20KHZ-3MHZ)
產(chǎn)品系列：
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